Mentor Graphics增强对TSMC 7纳米工艺初期

time : 2018-10-16 14:15       浣滆咃細鍑′嚎pcb

设计开发和10纳米工艺量产的支援
WILSONVILLE, Ore. Mentor Graphics公司(纳斯达克代码:MENT)今天宣布,借由完成 TSMC 10 纳米 FinFET V1.0 认证,进一步增强和优化Calibre 平台和 Analog FastSPICE (AFS) 平台。除此之外,Calibre 和 Analog FastSPICE 平台已可应用在基于TSMC 7 纳米 FinFET 工艺最新设计规则手册 (DRM) 和 SPICE 模型的初期设计开发和 IP 设计。为协助共同客户能准备好使用先进工艺做设计,Mentor 为TSMC 10 纳米工艺改进物理验证工具,加速 Calibre nmDRC sign-off 工具的运行时间,使其优于去年初针对 10 纳米精确度进行认证时的工具运行时间。Calibre nmLVS 工具已可支持10纳米工艺中新的组件参数抽取,以获取更精准的 SPICE 模型和自热仿真。同时,Mentor 还提升了 Calibre xACT 解决方案的寄生参数精确度,并积极改善布局寄生参数抽取流程以满足 10 纳米技术的要求。Calibre 平台还可帮助设计工程师提高设计可靠度和可制造性。在为 10 纳米工艺电阻和电流密度检查做了技术的改进后,现在 TSMC倚赖 Calibre PERC 可靠性验证解决方案做可靠度确认。在可制造性设计 (DFM) 方面,Mentor 添加了色彩感知填充和更精密的对齐和间距规则在 Calibre YieldEnhancer 工具的SmartFill 功能中。此外,Mentor 还优化了 Calibre DESIGNrev 协助芯片最后完工工具、Calibre RVE 结果查看器和 Calibre RealTime 界面,为设计工程师在多重曝光、版图布局与电路图 (LVS) 比较以及电气规则检查 (ERC) 及可靠性验证方面提供更容易整合和除错功能。如今,Mentor 和 TSMC 携手合作,将 Calibre 平台的多样化功能应用至 7 纳米FinFET 工艺中。Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具已通过客户早期设计的验证。TSMC 和 Mentor 正扩大 SmartFill 和 Calibre 多重曝光功能的使用功能,为 7 纳米的工艺需求提供技术支持。为获得快速、准确的电路仿真,TSMC 认证AFS 平台,包含 AFS Mega 电路仿真器可用于TSMC 10 纳米 V1.0 工艺。AFS 平台还通过了最新版 7 纳米DRM和 SPICE 可用于早期设计开发。为支持10 纳米工艺先进的设计规则,Mentor 增强了包括 Olympus-SoC 系统在内的布局布线平台,并且优化其结果能与sign-off 参数抽取和静态时序分析工具有相关性。这项优化也扩展至7 纳米工艺。我们将继续与 Mentor Graphics 合作,提供设计解决方案和服务于我们的共同客户,帮助他们在 7 纳米工艺设计方面获得成功, TSMC 设计建构营销部资深处长 Suk Lee 说。通过携手合作,我们能支持10 纳米设计实现量产。现今杰出的 SoC 设计工程师要能掌握最先进的工艺,需要晶圆代工厂和 EDA 供货商两者之间的紧密合作,Mentor Graphics Design to Silicon 事业部副总裁兼总经理 Joe Sawicki 表示。对于 TSMC 在其未来的生态系统策略上能继续利用已经证明具有高质量、高性能和全面性的Mentor 平台,我们感到非常荣幸。